Sistema de Deposição Por Laser Pulsado - Inovação brasileira

Grafeno
A técnica de Deposição por Laser Pulsado (PLD - Pulse Laser Deposition) para obtenção de filmes finos vem sendo amplamente utilizada em laboratórios, principalmente pelo seu baixo custo, além de tornar possível a variação parâmetros operacionais.

O Sistema Brasileiro de Deposição por Laser Pulsado

Cichetto ao lado de seu equipamento PLD
O projeto do sistema de deposição por laser pulsado (PLD), para fabricação de filmes finos, foi tema de doutoramento do pesquisador Leonélio Cichetto Jr,  no Centro de Desenvolvimento de Materiais Funcionais, da UFSCar. O projeto é pioneiro no Brasil e beneficiará não só o departamento de pesquisa com materiais supercondutores como também fabricação de dispositivos a base de filmes finos, como exemplo: sensores, heteroestruturas de multicomponentes, memórias ferroelétricas, memórias RAM, eletrodos, polímeros,filmes finos biocompatíveis, efeito GMR, grafeno e nanofios.
O sistema utiliza como fonte de energia um excimer laser pulsado de 248 nm e foi dedicado a deposição de filmes finos supercondutores de alta temperatura crítica. Utilizaram filmes de YBCO (YBa₂Cu₃O₇) para deposição, calibração e teste de parâmetros do sistema de deposição a laser pulsado, analisaram também, os resultados sob a deposição de filmes finos supercondutores.
Segundo Cichetto o seu PLD utiliza um feixe de laser pulsado de alta intensidade e energia para bombardear um número determinado de alvos em uma câmera a vácuo. Quando os alvos são atingidos pelos feixes laser, eles passam do estado sólido para o estado de plasma e se depositam em um substrato, recobrindo-o.



Benefícios da Deposição por Laser Pulsado

A técnica PLD tem se tornado cada vez mais atraente devido ao seu baixo custo e a possibilidade de variar parâmetros operacionais como densidade de energia, grau de ionização, disposição geométrica dos equipamentos dentro da câmara de deposição e temperatura do substrato.
Cichetto trabalha com o desenvolvimento de novos tipos de memórias para computadores e afirma " O composto niquelato de lantânio (LaNiO₃) é um material interessante com aplicações promissoras na fabricação de filmes finos nanoestruturados", já a cerâmica policristalina de titanato de bário (BaTiO₃) tem propriedades piezoelétricas e pode ser usada na fabricação de memórias dielétricas/ferroelétricas.
 A técnica de deposição por laser pulsado não só permite a produção de filmes finos,como também de monocamadas e heteroestruturas complexas utilizando um carrossel de seis alvos sincronizados com o laser.
 O equipamento poderá ser utilizado por todas as instituições de pesquisa do país.




Referencias
Brasileiro constrói equipamento para ciências dos materiais
Desenvolvimento de sistema para obtenção de filmes finos supercondutores de alta temperatura crítica (HTS) por deposição por laser pulsado (PLD) - Repositório UFSCAR